¿Cuáles son las diferencias entre los flujos de proceso de los circuitos integrados bipolares y los transistores?

Materiales base, etc.

1. Material base: Los circuitos integrados bipolares suelen utilizar sustratos de silicio de tipo n o tipo p, mientras que los transistores utilizan un único sustrato de silicio de tipo n o tipo p.

2. Producción de máscaras: los circuitos integrados bipolares utilizan tecnología de producción de máscaras de fotolitografía, mientras que los transistores utilizan tecnología de grabado por haz de electrones. Esto se debe a que la cantidad de capas de máscara necesarias para los circuitos integrados bipolares es relativamente pequeña. es más rápido, mientras que las máscaras más complejas y de mayor precisión requeridas para los transistores requieren una tecnología de grabado por haz de electrones de mayor nivel.

3. Proceso de fabricación: El proceso de fabricación de los circuitos integrados bipolares es relativamente sencillo y se puede lograr únicamente con procesos básicos como la difusión y la deposición, mientras que los transistores requieren procesos de fabricación más detallados y complejos, como la fotolitografía. grabado húmedo, implantación de iones, deposición química de vapor y otros pasos.

4. Integración: En comparación con los transistores, los circuitos integrados bipolares tienen un grado de integración relativamente bajo.